特許
J-GLOBAL ID:201003042948433800
インプリント用モールド構造体、インプリント用モールド構造体の製造方法、インプリント方法、及び磁気記録媒体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
廣田 浩一
, 流 良広
, 松田 奈緒子
, 池田 浩
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-083353
公開番号(公開出願番号):特開2010-234575
出願日: 2009年03月30日
公開日(公表日): 2010年10月21日
要約:
【課題】シランカップリング剤の凝集を抑え、離型層の耐久性が高いインプリント用モールド構造体及びその製造方法、並びに、該インプリント用モールド構造体を用いたインプリント方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明のインプリント用モールド構造体は、凹凸面上に、シランカップリング剤(A成分)と、末端に極性基を有する化合物を有する添加剤(B成分)とを含む離型層を有することを特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
凹凸面上に、シランカップリング剤(A成分)と、末端に極性基を有する化合物を有する添加剤(B成分)とを含む離型層を有することを特徴とするインプリント用モールド構造体。
IPC (5件):
B29C 59/02
, G11B 5/84
, G11B 5/855
, H01L 21/027
, B29C 33/58
FI (5件):
B29C59/02 B
, G11B5/84 Z
, G11B5/855
, H01L21/30 502D
, B29C33/58
Fターム (25件):
4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202AH38
, 4F202AJ03
, 4F202AJ09
, 4F202AJ11
, 4F202AM13
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CD30
, 4F202CM47
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AJ08
, 4F209AJ09
, 4F209AJ11
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PQ11
, 5D112AA02
, 5D112AA17
, 5D112BA09
, 5F046AA28
引用特許:
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