特許

J-GLOBAL ID：201003045585383805

ミクロ相分離構造を有する高分子膜の製造方法

発明者： 今泉 公夫 ,  植田 致知 ,  坂本 直紀
出願人/特許権者： 旭化成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-243606
公開番号（公開出願番号）：特開2010-077172
出願日： 2008年09月24日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

【課題】アニール処理することなく、アズキャスト法のみで膜面に垂直にミクロ相分離構造を配向させたブロック共重合体膜の製造方法を提供する。【解決手段】膜厚が1μm〜1000μmで、ミクロ相分離構造が膜表面に対して垂直方向に配向した構造を有するブロック共重合体膜の製造方法であって、沸点が140°C以上300°C以下である溶媒にブロック共重合体を溶解させた溶液をキャストする工程を含むブロック共重合体膜の製造方法に関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

膜厚が1μm〜1000μmで、ミクロ相分離構造が膜表面に対して垂直方向に配向した構造を有するブロック共重合体膜の製造方法であって、沸点が140°C以上300°C以下である溶媒にブロック共重合体を溶解させた溶液をキャストする工程を含むブロック共重合体膜の製造方法。

IPC (1件)：

C08J 5/18

FI (1件)：

C08J5/18

Fターム (12件)：

4F071AA12X ,  4F071AA15X ,  4F071AA20X ,  4F071AA21X ,  4F071AA22X ,  4F071AA32X ,  4F071AA37X ,  4F071AA75 ,  4F071BA02 ,  4F071BB02 ,  4F071BC01 ,  4F071BC17

引用特許：

出願人引用 (5件)

• パターン形成材料、多孔質構造体の製造方法、パターン形成方法、電気化学セル、中空糸フィルター、多孔質カーボン構造体の製造方法、キャパシタの製造方法、および燃料電池の触媒層の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-169263   出願人：株式会社東芝
• 記録媒体、記録媒体の製造方法、および記録装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-082436   出願人：株式会社東芝
• ミクロ相分離構造体及びミクロ相分離体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-357808   出願人：旭化成株式会社
• 垂直配向ラメラ構造を有するブロック共重合体膜作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-260512   出願人：関西ティー・エル・オー株式会社
• 垂直方向に配向したシリンダー構造を有するブロック共重合体膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-123585   出願人：国立大学法人京都工芸繊維大学, 旭化成ケミカルズ株式会社

審査官引用 (1件)

• パターン形成材料、多孔質構造体の製造方法、パターン形成方法、電気化学セル、中空糸フィルター、多孔質カーボン構造体の製造方法、キャパシタの製造方法、および燃料電池の触媒層の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-169263   出願人：株式会社東芝