導電パターン形成基板の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 渡邊隆 , 鈴木三義 , 西和哉 , 村山靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-037973
公開番号（公開出願番号）：特開2010-192387
出願日： 2009年02月20日
公開日（公表日）： 2010年09月02日
要約：

【課題】有機導電体の導電パターンが形成されているにもかかわらず、導電パターンが視認されにくい導電パターン形成基板を容易に製造できる導電パターン形成基板の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の導電パターン形成基板の製造方法は、透明基材A2の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層A1に、パルス幅1p秒未満の極短パルスのレーザ光Lを所定のパターンで照射する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明基材の少なくとも一方の面に形成された有機導電体製の透明導電層に、パルス幅1p秒未満の極短パルスのレーザ光を所定のパターンで照射することを特徴とする導電パターン形成基板の製造方法。

IPC (1件)：

H01B 13/00

FI (2件)：

H01B13/00 503B , H01B13/00 503D

Fターム (4件)：

5G323BA05 , 5G323BB01 , 5G323BC03 , 5G323CA04

引用特許：

審査官引用 (8件)

パターン形成装置およびパターン形成方法、それを用いて作製されたデバイスおよび該デバイスを有する電子機器
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-164619 出願人：パナソニック株式会社
特開昭62-069657
超短パルスレーザーを用いた表面剥離洗浄方法とその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-235422 出願人：エレクトロン機器株式会社, 増原宏, 科学技術振興事業団

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