特許

J-GLOBAL ID：201003049914742442

粒子線照射システム及びこの制御方法

発明者： 岡崎 隆司 ,  平本 和夫 ,  藤高 伸一郎 ,  藤本 林太郎 ,  藤井 祐介
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (2件)： 井上 学 ,  戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-249472
公開番号（公開出願番号）：特開2010-075584
出願日： 2008年09月29日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：

【課題】 呼吸性移動等で運動する標的領域を標的領域形状に合った照射を短時間で行う方法および装置を提供することにある。【解決手段】 粒子線を加速する加速器2と、加速器2で加速された粒子線を照射対象に出射する粒子線照射装置5と、照射対象の移動幅を測定する位置測定装置6を備え、粒子線照射装置6は、粒子線の通過位置によってその厚みが異なる複数のエネルギー分布拡大フィルタ24を有し、位置測定装置6で測定した移動幅に応じていずれかのエネルギー分布拡大フィルタ24を、粒子線照射装置内の粒子線通過領域に設置するように制御する制御装置9を備えることにより、上記課題を解決する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

粒子線を加速する加速器と、 前記加速器で加速された前記粒子線を照射対象に出射する照射装置と、 前記照射対象の移動幅を測定する位置測定装置を備えた粒子線照射システムにおいて、 前記照射装置は、 前記粒子線の通過位置によってその厚みが異なる複数のエネルギー分布拡大フィルタを有し、 前記位置測定装置で測定した前記移動幅に応じて、いずれかの前記エネルギー分布拡大フィルタを、前記照射装置内の粒子線通過領域に設置する制御装置を備えることを特徴とする粒子線照射システム。

IPC (1件)：

A61N 5/10

FI (3件)：

A61N5/10 N ,  A61N5/10 K ,  A61N5/10 M

Fターム (4件)：

4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG22 ,  4C082AG31

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 荷電粒子線照射装置、及び荷電粒子線照射方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-009544   出願人：国立がんセンター総長, 住友重機械工業株式会社
• 粒子線照射システム、並びに、これに用いるコンピュータプログラム及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-343489   出願人：独立行政法人放射線医学総合研究所