特許
J-GLOBAL ID：201003050115894106
エリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
金山 聡
, 深町 圭子
, 伊藤 英生
, 藤枡 裕実
, 後藤 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-264963
公開番号（公開出願番号）：特開2010-079305
出願日： 2009年11月20日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：
【課題】フォトマスク作製において、使用するブランクス、レジストを配設したブランクス(レジスト塗布ブランクス)から、作製されるフォトマスクまで一貫して、あるいは部分的に、これら基板を処理と関連つけて適切に管理できる管理方法を提供する。【解決手段】IC、LSI等の半導体回路形成用のフォトマスクであって、光学式読み取りタイプのエリアコード(二次元IDコード)150が、フォトマスク108のガラス基板の端面110ないし裏面に、金属膜を転写式レーザーマーカー170によって転写形成することで設けられている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
IC、LSI等の半導体回路形成用のフォトマスクであって、光学式読み取りタイプのエリアコードが、フォトマスクのガラス基板の端面ないし裏面に、金属膜を転写式レーザーマーカーによって転写形成することで設けられていることを特徴とするエリアコード付きフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 R
, H01L21/30 502P
2H095BA01
, 2H095BB08
, 2H095BE04
