特許
J-GLOBAL ID：201003054126399757
複屈折パターン認証用ビューワ、複屈折パターン認証用キット、真正性認証媒体、および真正性認証方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
飯田 敏三
, 宮前 尚祐
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-126829
公開番号（公開出願番号）：特開2010-276713
出願日： 2009年05月26日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：
【課題】偽造防止ラベルなどに用いられる複屈折パターンを確実かつ簡便に認証するビューワを提供する。【解決手段】 複屈折性の異なる少なくとも2つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板1に、少なくとも一層の光学異方性層2が積層され、光学異方性層2の正面レタデーションが5nm以上であり、かつ、光学異方性層2の正面レタデーションと前記複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ/2より大きいビューワ。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
複屈折性の異なる少なくとも2つの領域を有する複屈折パターン認証用ビューワであって、偏光板に、少なくとも一層の光学異方性層が積層され、該光学異方性層の正面レタデーションが5nm以上であり、かつ、該光学異方性層の正面レタデーションと前記複屈折パターンの正面レタデーションの最大値の和がλ/2より大きいことを特徴とするビューワ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (30件)：
2H149AA28
, 2H149AB11
, 2H149BA02
, 2H149DA01
, 2H149DA02
, 2H149DA12
, 2H149EA02
, 2H149FA02Z
, 2H149FA03Z
, 2H149FA26Y
, 2H149FA35Y
, 2H149FA51Y
, 2H149FA58Y
, 2H149FD04
, 2H149FD05
, 4F100AJ06
, 4F100AK21
, 4F100AR00B
, 4F100AT00A
, 4F100BA02
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100EH46
, 4F100EJ54
, 4F100GB71
, 4F100JL05
, 4F100JN10A
, 4F100JN30B
, 4F100YY00A
, 4F100YY00B
