ハイドロフルオロエーテルを用いた放射性物質の除染用溶剤組成物及び除染材、並びに放射性物質の除染方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：谷義一 , 阿部和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-000174
公開番号（公開出願番号）：特開2010-122230
出願日： 2010年01月04日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：

【課題】本発明は、簡易に低濃度の放射性物質を除染する方法およびその方法に適した除染材、並びに除染用溶剤組成物を提供することを課題とする。【解決手段】 C4F9OCH3、およびC4F9OC2H5からなる群から選択される少なくとも一つを、放射性物質を運搬する媒体として使用する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

C4F9OCH3、およびC4F9OC2H5からなる群から選択される少なくとも一つを、放射性物質を運搬する媒体として含有することを特徴とする放射性物質の除染用組成物。

IPC (3件)：

G21F 9/28 , C11D 7/28 , C11D 17/04

FI (5件)：

G21F9/28 581Z , G21F9/28 525B , G21F9/28 525Z , C11D7/28 , C11D17/04

Fターム (8件)：

4H003BA22 , 4H003DA05 , 4H003DA14 , 4H003DB01 , 4H003ED26 , 4H003ED28 , 4H003ED29 , 4H003FA24

引用特許：

審査官引用 (4件)

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