特許

J-GLOBAL ID：201003059509890383

過硫酸製造装置及び過硫酸製造方法

発明者： 大江 太郎 ,  二ツ木 高志 ,  小野 義宣
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (2件)： 吉田 研二 ,  石田 純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-000280
公開番号（公開出願番号）：特開2010-156033
出願日： 2009年01月05日
公開日（公表日）： 2010年07月15日
要約：

【課題】硫酸及び過硫酸が高濃度で共存する過硫酸溶解水を製造することが可能な過硫酸製造装置及び過硫酸製造方法を提供する。【解決手段】陽極30と、陰極32と、陽極30側に硫酸アンモニウムを含む硫酸溶液を供給する硫酸溶液供給手段16と、を備え、陽極30と陰極32との間に電流を流し、前記硫酸溶液を電解して、過硫酸溶解水を製造する過硫酸製造装置1であって、前記硫酸溶液供給手段16により供給される前記硫酸溶液の全硫酸濃度は、6.5〜12mol/Lの範囲であり、そのうちの0.01〜3mol/Lの範囲は、硫酸アンモニウム由来によるものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

陽極と、陰極と、陽極側に硫酸アンモニウムを含む硫酸溶液を供給する硫酸溶液供給手段と、を備え、前記陽極と前記陰極との間に電流を流し、前記硫酸溶液を電解して、過硫酸溶解水を製造する過硫酸製造装置であって、 前記硫酸溶液供給手段により供給される前記硫酸溶液の全硫酸濃度は、6.5〜12mol/Lの範囲であり、そのうちの0.01〜3mol/Lの範囲は、硫酸アンモニウム由来によるものであることを特徴とする過硫酸製造装置。

IPC (1件)：

C25B 1/30

FI (1件)：

C25B1/30

Fターム (13件)：

4K021AB15 ,  4K021BA04 ,  4K021BA17 ,  4K021BB01 ,  4K021BC01 ,  4K021CA08 ,  4K021CA09 ,  4K021CA10 ,  4K021CA12 ,  4K021DB05 ,  4K021DB18 ,  4K021DB31 ,  4K021DC15

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ダイアモンドを被覆した電極を使用してペルオクソ二硫酸を電気化学的に製造する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-528231   出願人：フラウンホーファー-ゲゼルシャフトツルフェルデルングデルアンゲヴァンテンフォルシュングエーファウ, セエスエエムサントルスイスデレクトロニクエドミクロテクニクソシエテアノニム
• 過硫酸溶解水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-374304   出願人：ペルメレック電極株式会社

審査官引用 (2件)

• ダイアモンドを被覆した電極を使用してペルオクソ二硫酸を電気化学的に製造する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2001-528231   出願人：フラウンホーファー-ゲゼルシャフトツルフェルデルングデルアンゲヴァンテンフォルシュングエーファウ, セエスエエムサントルスイスデレクトロニクエドミクロテクニクソシエテアノニム
• 過硫酸溶解水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-374304   出願人：ペルメレック電極株式会社