特許
J-GLOBAL ID:201003059530749631
試験片,該試験片の製造方法、及び試験片を用いた測定法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-075662
公開番号(公開出願番号):特開2010-230352
出願日: 2009年03月26日
公開日(公表日): 2010年10月14日
要約:
【課題】 計測感度が良く効果的に分析を行うことのできる試験片、及び該試験片の製造方法、並びに該試験片を用いた測定方法を提供する。【解決手段】 本発明に係る試験片は、ナノ構造表面を有する試験片を得る第1ステップと、第1ステップにより得られたナノ構造表面を有した試験片の表面に対して特定領域と特定領域を囲む外周領域とに区分けする第2ステップと、第2ステップにより区分けされた特定領域が外周領域に対して接触角が相対的に小さくなるように、特定領域に対して親液化処理,または外周領域に対して疎液化処理を施すこと第3ステップと、から構成することにより、計測感度が良く効果的に分析を行うことのできる試験片を得ることができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
ナノ構造表面を有する試験片であって、前記ナノ構造表面を有する領域において親液性領域と,該親液性領域を囲む領域であって前記親液性領域に対して相対的に疎液性を有する疎液性領域と,が形成されていることを特徴とする試験片。
IPC (4件):
G01N 21/65
, G01N 21/35
, G01N 21/27
, G01N 21/64
FI (4件):
G01N21/65
, G01N21/35 Z
, G01N21/27 C
, G01N21/64 G
Fターム (19件):
2G043AA01
, 2G043BA14
, 2G043CA04
, 2G043DA02
, 2G043EA03
, 2G043EA13
, 2G043FA06
, 2G043GA08
, 2G043GB03
, 2G043HA02
, 2G043HA07
, 2G043KA07
, 2G043KA09
, 2G043LA01
, 2G059AA01
, 2G059BB04
, 2G059EE02
, 2G059EE03
, 2G059MM08
引用特許:
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