特許
J-GLOBAL ID：201003061988648219
荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、及びデータ処理方式選択装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松山 允之
, 池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-056961
公開番号（公開出願番号）：特開2010-212456
出願日： 2009年03月10日
公開日（公表日）： 2010年09月24日
要約：
【目的】SFサイズとクラスタサイズが小さくなる場合でも、より効率的なデータ処理を行なうことが可能な装置を提供することを目的とする。【構成】描画装置100は、SFに図形を多重描画の回数分だけ配置するように多重描画の回数分の内部データを生成する全層変換方式と、クラスタに図形を配置するように多重描画の1回分の内部データを生成する単層変換方式とのいずれかを選択する制御計算機110と、選択された方式に沿って、データ処理して、一方の方式での内部データを生成する制御計算機130と、内部データの一方を一時的に記憶する記憶装置174と、選択された方式に応じてデータ処理して、多重描画の回数分の複数のショットデータを生成する制御計算機140と、複数のショットデータを用いて、各回の描画範囲をずらしながら試料にパターンを多重描画する描画部150と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
1つ以上の図形から構成されるセルがチップ領域に定義された描画データを入力し、前記描画データを用いて、前記チップ領域を仮想分割した複数の第1の小領域の対応する小領域に前記図形を多重描画の回数分だけ配置するように前記多重描画の回数分の複数の第1の内部データを生成する第1の方式と、前記セルを仮想分割した複数の第2の小領域の対応する小領域に前記図形を配置するように前記多重描画の1回分の第2の内部データを生成する第2の方式とのいずれかを選択する方式選択部と、
選択された結果に応じた前記第1と第2の方式のいずれかの方式に沿って、前記描画データをデータ処理して、前記複数の第1の内部データと前記第2の内部データの一方を生成する内部データ生成部と、
前記複数の第1の内部データと前記第2の内部データの一方を一時的に記憶する記憶装置と、
前記記憶装置から前記複数の第1の内部データと前記第2の内部データの一方を読み出し、選択された結果に応じて前記複数の第1の内部データと前記第2の内部データの一方をデータ処理して、前記多重描画の回数分の複数のショットデータを生成するショットデータ生成部と、
前記複数のショットデータを用いて、各回の描画範囲をずらしながら荷電粒子ビームを照射することにより試料にパターンを多重描画する描画部と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01J 37/305
H01L21/30 541J
, H01L21/30 541Q
, G03F7/20 521
, H01J37/305 B
5C034BB05
, 5C034BB10
, 5F056AA04
, 5F056CA01
, 5F056CA02
, 5F056CA05
, 5F056CA11
, 5F056CA23
