特許
J-GLOBAL ID：200903087462659419
荷電粒子線描画データの作成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松山 允之
, 河西 祐一
, 池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-062046
公開番号（公開出願番号）：特開2007-242823
出願日： 2006年03月08日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【目的】レイアウトデータのデータ量を低減させる手法を提供することを目的とする。【構成】回路のレイアウトデータから荷電粒子線を用いて荷電粒子線を偏向させながら所定のパターンを描画するための描画データを作成する本発明の荷電粒子線描画データの作成方法は、複数の偏向領域に跨るパターンが含まれるレイアウトデータを入力する入力工程(S102)と、入力されたレイアウトデータに基づいて、上述した複数の偏向領域の各偏向領域にかかる跨るパターンのうち自己の領域で偏向可能な部分パターンを生成するパターン生成工程(S106、S112)と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、レイアウトデータのデータ量を低減させることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
回路のレイアウトデータから荷電粒子線を用いて前記荷電粒子線を偏向させながら所定のパターンを描画するための描画データを作成する荷電粒子線描画データの作成方法において、
複数の偏向領域に跨るパターンが含まれるレイアウトデータを入力する入力工程と、
入力された前記レイアウトデータに基づいて、前記複数の偏向領域の各偏向領域ごとに前記跨るパターンのうち自己の領域で偏向可能な部分パターンを生成するパターン生成工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子線描画データの作成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F056CA02
, 5F056CA05
, 5F056CA21
出願人引用 (2件)
審査官引用 (11件)
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