連続成膜装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：本田龍雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-119698
公開番号（公開出願番号）：特開2010-265527
出願日： 2009年05月18日
公開日（公表日）： 2010年11月25日
要約：

【課題】種々の成膜法が利用可能な連続成膜装置を提供する。【解決手段】真空中で搬送される基材Sの表面に成膜粒子を供給して皮膜を形成する連続成膜装置であって、真空チャンバ-1と、真空チャンバー1内に回転自在に支持され、基材Sを巻き掛けて搬送する成膜ロール4と、前記基材Sを成膜域に供給する巻出ロール5および成膜後の基材を巻き取る巻取ロール6と、前記成膜ロール4に対向して配置されたスパッタ蒸発源71,72,73を備える。さらに前記成膜ロール4の下部に一対の回転円筒状電極11,12をそれぞれ成膜ロール4と平行に備える。前記一対の回転円筒状電極の少なくとも一方は円筒状ターゲット13を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空中で搬送される基材の表面に成膜粒子を供給して皮膜を形成する連続成膜装置であって、真空チャンバ-と、前記真空チャンバー内に回転自在に支持され、前記基材を巻き掛けて搬送することができる成膜ロールと、前記基材を供給する巻出ロールおよび成膜後の基材を巻き取る巻取ロールと、前記成膜ロールに対向して配置された成膜源を備え、さらに一対の回転円筒状電極をそれぞれ前記成膜ロールと平行に配置した、連続成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/56 , C23C 16/44

FI (2件)：

C23C14/56 A , C23C16/44 B

Fターム (16件)：

4K029AA11 , 4K029AA25 , 4K029DC13 , 4K029DC16 , 4K029DC39 , 4K029DC44 , 4K029GA02 , 4K029KA03 , 4K030CA07 , 4K030CA17 , 4K030FA01 , 4K030GA14 , 4K030HA02 , 4K030KA10 , 4K030KA12 , 4K030KA16

引用特許：

出願人引用 (4件)

スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-189471 出願人：株式会社神戸製鋼所
連続成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-202735 出願人：株式会社神戸製鋼所
プラズマCVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-031585 出願人：株式会社神戸製鋼所

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審査官引用 (4件)

スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-189471 出願人：株式会社神戸製鋼所
連続成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-202735 出願人：株式会社神戸製鋼所
プラズマCVD装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-031585 出願人：株式会社神戸製鋼所

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