特許

J-GLOBAL ID：201003068897473852

排ガス浄化用触媒及びその製造方法

発明者： 大村 哲賜 ,  森川 彰 ,  須田 明彦
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 長濱 範明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-019939
公開番号（公開出願番号）：特開2010-172848
出願日： 2009年01月30日
公開日（公表日）： 2010年08月12日
要約：

【課題】高温雰囲気下に長時間曝された場合においてもロジウムの粒成長を十分に抑制することができて十分な触媒活性が維持される排ガス浄化用触媒を提供すること。【解決手段】担体と、ロジウムカルボニル多核錯体を用いて前記担体に原子状態で担持されたロジウムとを備えることを特徴とする排ガス浄化用触媒。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

担体と、ロジウムカルボニル多核錯体を用いて前記担体に原子状態で担持されたロジウムとを備えることを特徴とする排ガス浄化用触媒。

IPC (4件)：

B01J 31/26 ,  B01J 31/38 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/10

FI (4件)：

B01J31/26 A ,  B01J31/38 A ,  B01D53/36 102A ,  F01N3/10 A

Fターム (31件)：

3G091AA02 ,  3G091AB01 ,  3G091BA01 ,  3G091BA39 ,  3G091GB05W ,  3G091GB10X ,  3G091GB17X ,  4D048AA06 ,  4D048BA01X ,  4D048BA03X ,  4D048BA08X ,  4D048BA18X ,  4D048BA33X ,  4D048BA41X ,  4G169AA03 ,  4G169AA12 ,  4G169BA01B ,  4G169BA05B ,  4G169BA06B ,  4G169BA28A ,  4G169BA28B ,  4G169BB04B ,  4G169BC44B ,  4G169BC71A ,  4G169BC71B ,  4G169BE42A ,  4G169BE42B ,  4G169CA03 ,  4G169CA13 ,  4G169DA06 ,  4G169FA02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 触媒の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-006333   出願人：マツダ株式会社
• 固定化Rhクラスター錯体触媒及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-036254   出願人：荒川化学工業株式会社
• 排ガス浄化触媒及びその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-109235   出願人：日野自動車工業株式会社
• ガス浄化方法,ガス浄化触媒、及び排ガス浄化装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-342058   出願人：株式会社日立製作所