特許
J-GLOBAL ID:201003071630594465
高純度水素ガス製造用PSA装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
梶 良之
, 須原 誠
, 竹中 芳通
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-321249
公開番号(公開出願番号):特開2010-111562
出願日: 2008年12月17日
公開日(公表日): 2010年05月20日
要約:
【課題】オートサーマル改質法などの改質プロセスにより製造された、不純物成分として少なくともCOとCO2とN2および/またはArを含む改質ガスから高い回収率で高純度の水素ガスを回収し、かつ設備のコンパクト化、すなわち設備コストの低減に寄与しうる高純度水素ガス製造用PSA装置を提供する。【解決手段】水素含有ガスAからCO、CO2およびN2を吸着除去して高純度水素ガスBを製造するPSA装置において、PSA装置の吸着塔1内に、改質ガスAの流通方向の上流側から下流側に向かって、CO2およびN2を実質的に吸着することなくCOを選択的に吸着するCO吸着剤層5、CO2を吸着するための炭素系吸着剤層4、N2を吸着するためのゼオライト層3aの順序で積層した吸着剤床2を設け、吸着剤床2の再生時は、洗浄ガスCが、前記水素含有ガスAの流通方向とは逆の方向に流通するように構成する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
水素含有ガスからCOとCO2とN2および/またはArとを吸着除去して高純度水素ガスを製造するPSA装置において、PSA装置の吸着塔内に、前記水素含有ガスの流通方向の上流側から下流側に向かって、CO2とN2および/またはArとを実質的に吸着することなくCOガスを選択的に吸着するためのCO吸着剤層と、CO2を吸着するための炭素系吸着剤層とをその順序で、次いで、N2を吸着するためのゼオライト層、および/または、Arを吸着するための吸着剤層を順不同で積層した吸着剤床を設け、前記吸着剤床の再生時は、洗浄ガスが、前記水素含有ガスの流通方向とは逆の方向に流通するように構成したことを特徴とする高純度水素ガス製造用PSA装置。
IPC (7件):
C01B 3/56
, C01B 39/22
, C01B 39/14
, B01D 53/02
, B01D 53/04
, B01J 20/18
, B01J 20/02
FI (7件):
C01B3/56 Z
, C01B39/22
, C01B39/14
, B01D53/02 Z
, B01D53/04 B
, B01J20/18 B
, B01J20/02 C
Fターム (48件):
4D012BA02
, 4D012BA03
, 4D012BA10
, 4D012CA03
, 4D012CA07
, 4D012CB13
, 4D012CB16
, 4D012CD07
, 4D012CG01
, 4D012CJ02
, 4D012CJ03
, 4G066AA04B
, 4G066AA05B
, 4G066AA20B
, 4G066AA22B
, 4G066AA37D
, 4G066AA61B
, 4G066AA62B
, 4G066CA21
, 4G066CA27
, 4G066CA35
, 4G066DA04
, 4G066GA14
, 4G073BA03
, 4G073BA11
, 4G073CZ02
, 4G073CZ04
, 4G073UA06
, 4G140FA06
, 4G140FB04
, 4G140FB06
, 4G140FC03
, 4G140FD01
, 4G140FD02
, 4G140FD03
, 4G140FE01
, 5H026AA06
, 5H026BB10
, 5H026EE05
, 5H026EE06
, 5H026EE11
, 5H026EE12
, 5H026HH09
, 5H027AA02
, 5H027AA06
, 5H027BA16
, 5H027BA20
, 5H027MM08
引用特許: