特許
J-GLOBAL ID：201003071899542631

複合膜、およびその形成方法

発明者：
進藤 豊彦

進藤 豊彦 について


出願人/特許権者：
有限会社コンタミネーション・コントロール・サービス

有限会社コンタミネーション・コントロール・サービス について


代理人 (6件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-313300
公開番号（公開出願番号）：特開2010-137372
出願日： 2008年12月09日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：
【課題】基材の面粗度に関係なく、優れた耐食性を十分に発揮できる複合膜、およびその形成方法を提供する。【解決手段】基板20上に設けられた、シリカと樹脂を含有するコーティング膜11と、該コーティング膜11上に設けられたシリカ膜12とを備えたことを特徴とする複合膜10、および基材20上に、ポリシラザンと、樹脂と、ポリシラザンとは反応せず、かつポリシラザンが溶解する溶媒とを含有する混合液を塗布し、乾燥させてコーティング膜11を形成するコーティング膜形成工程と、前記コーティング膜11上に、ポリシラザン溶液を塗布し、乾燥させてポリシラザン膜を形成するポリシラザン膜形成工程と、前記ポリシラザン膜中のポリシラザンをシリカに転化して、シリカ膜12を形成するシリカ膜形成工程とを有することを特徴とする複合膜の形成方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に設けられた、シリカと樹脂を含有するコーティング膜と、該コーティング膜上に設けられたシリカ膜とを備えたことを特徴とする複合膜。
IPC (2件)：
B32B 9/00 ,  B05D 7/24
FI (2件)：
B32B9/00 A ,  B05D7/24 302Y
Fターム (34件)：
4D075AE03 ,  4D075BB21Z ,  4D075BB48Z ,  4D075BB49Z ,  4D075BB57Z ,  4D075CA33 ,  4D075EB14 ,  4D075EB16 ,  4D075EB22 ,  4D075EB42 ,  4D075EB47 ,  4D075EC13 ,  4F100AA01A ,  4F100AA20A ,  4F100AA20B ,  4F100AK01A ,  4F100AK12A ,  4F100AK17A ,  4F100AK25A ,  4F100AK79B ,  4F100AT00C ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100CA23A ,  4F100CC00A ,  4F100EJ42B ,  4F100EJ61B ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072FF10 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH28 ,  4G072NN21
引用特許：
出願人引用 (4件)
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