特許
J-GLOBAL ID:201003072759528414
グリシジルオキシアルキルトリアルコキシシランの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (8件):
矢野 敏雄
, 山崎 利臣
, 久野 琢也
, 杉本 博司
, 高橋 佳大
, 星 公弘
, 二宮 浩康
, アインゼル・フェリックス=ラインハルト
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-548590
公開番号(公開出願番号):特表2010-518031
出願日: 2007年12月20日
公開日(公表日): 2010年05月27日
要約:
本発明は、一般式(I)(R′′)O-CnH2nSi(R′)m(OR)3-m[式中、基R及びR′は独立して、1〜4個の炭素原子を有する線状の又は分枝したアルキル基であり、nは、1、2、3、4、5、6、7又は8であり、そしてmは0、1、2又は3であり、そしてR′′は基H2C(O)CH-又はH2C(O)CHCH2-である]のグリシジルオキシアルキルアルコキシシランの製造方法であって、(i)一般式(II)(R′′)O-CnH2n-1[式中、R′′は、基H2C(O)CH-又はH2C(O)CHCH2-であり、nは1、2、3、4、5、6、7又は8である]の官能化したアルケンを、(ii)一般式(III)HSi(R′)m(OR)3-m (III)[式中、基R及びR′は、独立して、1〜4個の炭素原子を有する線状の又は分枝したアルキル基であり、かつ、mは0、1、2又は3である]の少なくとも1つの水素アルコキシシランと、(iii)少なくとも1の均一系触媒(iv)少なくとも1種の溶媒及び/又は少なくとも1種の希釈剤及び(v)少なくとも1種の促進剤の存在下で反応させる、製造方法に関する。
請求項(抜粋):
一般式(I)
(R′′)O-CnH2nSi(R′)m(OR)3-m (I)
[式中、基R及びR′は独立して、1〜4個の炭素原子を有する線状の又は分枝したアルキル基であり、nは、1、2、3、4、5、6、7又は8であり、そしてmは0、1、2又は3であり、そしてR′′は基H2C(O)CH-又はH2C(O)CHCH2-である]
のグリシジルオキシアルキルアルコキシシランの製造方法であって、
(i)一般式(II)
(R′′)O-CnH2n-1 (II)
[式中、R′′は、基H2C(O)CH-又はH2C(O)CHCH2-であり、nは1、2、3、4、5、6、7又は8である]の官能化したアルケンを、
(ii)一般式(III)
HSi(R′)m(OR)3-m (III)
[式中、基R及びR′は独立して、1〜4個の炭素原子を有する線状の又は分枝したアルキル基であり、かつ、mは0、1、2又は3である]の少なくとも1の水素アルコキシシラン
と、
(iii)少なくとも1の均一系触媒、
(iv)少なくとも1種の溶媒及び/又は少なくとも1種の希釈剤及び
(v)少なくとも1種の促進剤の存在下で反応させる、製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (15件):
4H039CA92
, 4H039CF10
, 4H049VN01
, 4H049VP01
, 4H049VQ21
, 4H049VR21
, 4H049VR43
, 4H049VS21
, 4H049VT17
, 4H049VT30
, 4H049VU21
, 4H049VU36
, 4H049VV06
, 4H049VW02
, 4H049VW32
引用特許:
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