特許

J-GLOBAL ID：201003073104927452

磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体

発明者： 園部 義明 ,  安仁屋 政憲 ,  ミトラ オヌポン
出願人/特許権者： HOYA株式会社 ,  ホーヤ マグネティクス シンガポール プライベートリミテッド
代理人 (1件)： 特許業務法人 アクア特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-280568
公開番号（公開出願番号）：特開2010-108559
出願日： 2008年10月30日
公開日（公表日）： 2010年05月13日
要約：

【課題】レジストの直下に剥離しやすい層を新たに設けることで、レジストを簡単かつ確実に除去することができるため、表面に露出する層にダメージを与えずに磁気トラックパターンを形成することを目的とする。【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体100の製造方法は、ディスク基体110上に、磁気記録層122を成膜し、磁気記録層の上に保護層126を成膜し、保護層の上にSOGによって剥離層130を成膜し、剥離層の上にレジスト層132を成膜し、レジスト層および剥離層を加工することで当該レジスト層および剥離層の厚さを部分的に変化させ所定のパターンを形成し、所定のパターンに対応したパターンで磁気記録層を磁気的に分離し、剥離層を溶剤で除去することによりレジスト層を除去することを特徴としている。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

基体上に、磁気記録層を成膜する磁気記録層成膜工程と、 前記磁気記録層の上に保護層を成膜する保護層成膜工程と、 前記保護層の上にSOGによって剥離層を成膜する剥離層成膜工程と、 前記剥離層の上にレジスト層を成膜するレジスト層成膜工程と、 前記レジスト層および剥離層を加工することで該レジスト層および剥離層の厚さを部分的に変化させ所定のパターンを形成するパターニング工程と、 前記所定のパターンに対応したパターンで前記磁気記録層を磁気的に分離する磁気分離工程と、 前記剥離層を溶剤で除去することにより前記レジスト層を除去する除去工程と、 を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

IPC (3件)：

G11B 5/855 ,  G11B 5/84 ,  G11B 5/65

FI (3件)：

G11B5/855 ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/65

Fターム (6件)：

5D006BB07 ,  5D006DA04 ,  5D112AA05 ,  5D112AA17 ,  5D112GA02 ,  5D112GA20

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体、並びに磁気記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-257153   出願人：昭和電工株式会社
• 磁気記録媒体及びその製造方法と磁気記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-226524   出願人：昭和電工株式会社
• 磁気記録媒体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-183693   出願人：株式会社東芝