特許
J-GLOBAL ID：201003075061693927
多重露光プロセスにおいて用いるパターン分解のためのモデルベースのカラーリングプロセスを実行するための方法、プログラム製品、及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-247189
公開番号（公開出願番号）：特開2010-123943
出願日： 2009年10月28日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：
【課題】多重露光プロセスにおいて用いるための、基板上に結像されるフィーチャを含むターゲットパターンを複数の露光パターンに分解する方法を提供する。【解決手段】この方法は、ターゲットパターンをフラグメントに分割すること、フラグメントを露光パターンに関連付けること、フラグメントをILS評価点に関連付けること、ILS値を最大化することを含む。ILS値を最大化するステップは、更に、ILS評価点におけるILS値を算出すること、最小ILS値を求めること、フラグメントを異なる露光パターンに関連付けた結果としてのILS値の変化を算出すること、ILS値の最大の変化を決定すること、最大の変化に関連したフラグメントを異なる露光パターンに関連付けることを含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に結像されるフィーチャを含むターゲットパターンを複数の露光パターンに分解する方法であって、
前記ターゲットパターンをフラグメントに分割すること、
前記フラグメントを露光パターンに割り当てること、
前記フラグメントに評価点を割り当てること、
前記評価点の値を最大化することであって、
前記評価点における値を算出すること、
前記評価点の最小値を求めること、
フラグメントを異なる露光パターンに割り当てた結果としての前記値の変化を算出すること、
前記値の最大の変化を決定すること、
前記最大の変化に関連した前記フラグメントを前記異なる露光パターンに割り当てることを含む該最大化すること、
を含む、方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 7/20
H01L21/30 514A
, G03F1/08 A
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502C
, H01L21/30 514C
2H095BA01
, 2H095BB01
, 2H095BB02
, 2H095BB03
, 5F046AA11
, 5F046AA13
, 5F046AA25
, 5F046AA28
