特許
J-GLOBAL ID：200903079220282652
多重露光プロセスに用いられるモデルベースのジオメトリ分解のための方法、プログラム製品及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
稲葉 良幸
, 大賀 眞司
, 大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-349292
公開番号（公開出願番号）：特開2007-183630
出願日： 2006年12月26日
公開日（公表日）： 2007年07月19日
要約：
【課題】二重露光において、パターン分解の最適なアルゴリズムを提供する。【解決手段】(a)複数の特徴を複数の多角形に分割するステップ14と;(b)その複数の多角形の各々についてイメージログスロープ(ILS)値を決定するステップ16と;(c)最小のILS値を有する多角形を判定し、その多角形を含むマスクを定めるステップ18と;(d)干渉マップを生成するために、ステップ(c)で定められたマスクを伝送交差係数の固有関数とコンボルブするステップであって、その伝送交差係数が、ターゲットパターンを結像させるために利用されるべき照明システムを定めるステップ20と;(e)多角形に各々対応する場所における干渉マップの値に基いて多角形に位相を割り当てるステップであって、多重露光プロセス中のどの露光が多角形に割り当てられるかをこの位相が定めるステップ22を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に結像されるべき特徴を有するターゲットパターンを、前記特徴が多重露光プロセスで結像され得るように分解する方法であって:
(a)複数の前記特徴を複数の多角形に分割するステップと;
(b)前記複数の多角形の各々についてイメージログスロープ(ILS)値を決定するステップと;
(c)最小のILS値を有する多角形を判定し、前記多角形を含むマスクを定めるステップと;
(d)第1干渉マップを生成するために、ステップ(c)で定められた前記マスクを伝送交差係数の固有関数とコンボルブするステップであって、前記伝送交差係数が照明システムを定めるステップと;
(e)前記多角形に各々対応する場所における前記第1干渉マップの値に基いて前記多角形に位相を割り当てるステップであって、前記多重露光プロセス中のどの露光が前記多角形に割り当てられるかを前記位相が定めるステップと;を含む、方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 514A
2H095BA02
, 2H095BB02
, 5F046AA13
, 5F046AA25
, 5F046CB17
, 5F046DD03
出願人引用 (5件)
-
米国特許第6,046,792号
-
米国特許第5,969,441号
-
微細ホールパターンの形成方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-083341
出願人：NECエレクトロニクス株式会社
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審査官引用 (3件)
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