特許
J-GLOBAL ID：201003075339734220

熱処理中の被加工物を支持するシステムおよび方法

発明者：
カム、デーヴィッド、マルコム

カム、デーヴィッド、マルコム について

, 
シベレ、ジョセフ

シベレ、ジョセフ について

, 
バンブロヴィック、ムラデン

バンブロヴィック、ムラデン について


出願人/特許権者：
マトソン テクノロジー カナダ インコーポレイテッド

マトソン テクノロジー カナダ インコーポレイテッド について


代理人 (8件)： 特許業務法人浅村特許事務所 ,  浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕 ,  白江 克則 ,  田中 正 ,  金井 建
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-536574
公開番号（公開出願番号）：特表2010-509780
出願日： 2007年11月15日
公開日（公表日）： 2010年03月25日
要約：
非平面上面を有する支持板と、支持システムとを含む、熱処理中の被加工物を支持するための装置。支持システムは、被加工物の熱処理中、被加工物の初期形状の下面が支持板の非平面上面の上に不均一な間隔で支持されるように、被加工物を支持板の上に支持するように構成され、前記不均一な間隔は、被加工物の外周の下の縁部隙間と、被加工物の中心軸のところの中央部隙間とを含む。
請求項（抜粋）：
被加工物の熱処理の間、前記被加工物を支持するための装置であって、 非平面上面を有する支持板と、 前記被加工物の熱処理中、前記被加工物の初期形状の下面が前記支持板の非平面上面の上に不均一な間隔を置いて支持されるように、前記支持板の上に前記被加工物を支持し、前記不均一な間隔が、前記被加工物の外周の下にある縁部隙間と、前記被加工物の中心軸にある中央部隙間とを含むように構成されている支持システムと、 を備える装置。
IPC (2件)：
H01L 21/26 ,  H01L 21/683
FI (3件)：
H01L21/26 Q ,  H01L21/26 E ,  H01L21/68 N
Fターム (8件)：
5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031HA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA37 ,  5F031MA30 ,  5F031PA11
引用特許：
審査官引用 (9件)
  • 気相成長装置用サセプタ
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-226679   出願人：東芝セラミックス株式会社, 徳山セラミックス株式会社
  • ガスによって駆動される回転する基板を備えた急速熱処理(RTP)システム
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-522611   出願人：シュテアクエルテーペーシステムズゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
  • 熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-332088   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM