特許

J-GLOBAL ID：201003075386780770

液処理装置および液処理方法

発明者： 関 口 賢 治
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (5件)： 吉武 賢次 ,  永井 浩之 ,  岡田 淳平 ,  勝沼 宏仁 ,  大野 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-103767
公開番号（公開出願番号）：特開2010-258068
出願日： 2009年04月22日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：

【課題】凸形状部の倒壊をより確実に防止するだけではなく、被処理体の処理効率を高くすること。【解決手段】液処理装置は、本体部91と、本体部91に設けられた複数の凸形状部92とを有する被処理体90を処理する。液処理装置は、被処理体90の本体部91を支持する支持部50と、支持部50によって支持された被処理体90に薬液を供給する薬液供給機構1と、薬液供給機構1によって薬液が供給された後の被処理体90に、リンス液Rを供給するリンス液供給機構10と、を備えている。液処理装置は、リンス液供給機構10によってリンス液Rが供給された後の被処理体90に、疎水化ガスを噴出して供給する疎水化ガス供給機構20も備えている。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

本体部と、該本体部に設けられた複数の凸形状部とを有する被処理体を処理する液処理装置において、 前記被処理体の前記本体部を支持する支持部と、 前記支持部によって支持された前記被処理体に薬液を供給する薬液供給機構と、 前記薬液供給機構によって薬液が供給された後の前記被処理体に、リンス液を供給するリンス液供給機構と、 前記リンス液供給機構によってリンス液が供給された後の前記被処理体に、疎水化ガスを噴出して供給する疎水化ガス供給機構と、 を備えたことを特徴とする液処理装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (4件)：

H01L21/304 643A ,  H01L21/304 645B ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/304 645D

Fターム (19件)：

5F157AA09 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC24 ,  5F157BG43 ,  5F157CB03 ,  5F157CB04 ,  5F157CB11 ,  5F157CE25 ,  5F157CE28 ,  5F157CF12 ,  5F157CF34 ,  5F157CF40 ,  5F157CF44 ,  5F157CF60 ,  5F157DA21 ,  5F157DB03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 基板の現像処理方法および基板の現像処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-189361   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平3-184320
  
• 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-303453   出願人：東京エレクトロン株式会社