基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-303453
公開番号（公開出願番号）：特開2008-177541
出願日： 2007年11月22日
公開日（公表日）： 2008年07月31日
要約：

【課題】基板の反転を必要とせず、且つ基板の周縁部にダメージを与えないように基板の裏面を洗浄することの可能な基板洗浄装置等を提供する。【解決手段】基板洗浄装置1は、裏面を下方に向けた状態の基板を裏面から支えて保持する2つの基板保持手段(吸着パッド2、スピンチャック3)を備え、支える領域が重ならないようにしながらこれらの基板保持手段の間で基板を持ち替える。洗浄部材(ブラシ5)は基板保持手段により支えられている領域以外の基板の裏面を洗浄し、2つの基板保持手段の間で基板が持ち替えられることを利用して基板の裏面全体を洗浄する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の裏面を洗浄する基板洗浄装置において、下方を向いている基板裏面の第1の領域を水平に吸着保持する第1の基板保持手段と、この第1の基板保持手段より基板を受け取って、前記第1の領域とは重ならない基板裏面の第2の領域を水平に吸着保持する第2の基板保持手段と、前記第1の基板保持手段または第2の基板保持手段に吸着保持された基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記第1の基板保持手段から前記第2の基板保持手段へ基板を受け渡す前に、前記第2の領域を乾燥するための乾燥手段手段と、基板が第1の基板保持手段により保持されている間は、前記第2の領域を含む基板の裏面に接触して洗浄し、その基板が前記第2の基板保持手段により保持されている間は、前記第2の領域以外の基板の裏面に接触して洗浄する洗浄部材と、を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 , H01L 21/683 , H01L 21/027

FI (6件)：

H01L21/304 651B , H01L21/304 643A , H01L21/304 651L , H01L21/304 651K , H01L21/68 P , H01L21/30 572B

Fターム (39件)：

2H088FA21 , 2H088FA24 , 2H088FA30 , 2H088MA16 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031HA09 , 5F031HA13 , 5F031HA33 , 5F031HA58 , 5F031HA59 , 5F031MA23 , 5F031PA26 , 5F046MA10 , 5F157AA15 , 5F157AA42 , 5F157AA73 , 5F157AA88 , 5F157AA91 , 5F157AB02 , 5F157AB16 , 5F157AB33 , 5F157AB90 , 5F157AC01 , 5F157AC03 , 5F157AC23 , 5F157BA02 , 5F157BA13 , 5F157BB76 , 5F157CB15 , 5F157CB16 , 5F157CE24 , 5F157CE26 , 5F157CE76 , 5F157DA16 , 5F157DA21 , 5F157DB47 , 5F157DC51 , 5F157DC90

引用特許：

出願人引用 (1件)

特許第3377414号公報:第0036段落〜第0040段落、図3

審査官引用 (8件)

特開昭63-155622
基板処理法及び基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-403847 出願人：エス・イー・エス株式会社
基板の洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-231046 出願人：株式会社ニコン

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