特許

J-GLOBAL ID：201003080615834840

ポジ型感放射線性樹脂組成物

発明者： 西川 耕二 ,  佐古 明理
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (2件)： 牧村 浩次 ,  高畑 ちより
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-178853
公開番号（公開出願番号）：特開2010-019966
出願日： 2008年07月09日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：

【課題】スピンコート法の実施条件を変更することにより、膜厚が大きく異なる樹脂膜を形成することが可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】(A)酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位を有する重合体、(B)感放射線性酸発生剤、および(C)20°C、1気圧での飽和蒸気圧が3.0mmHg以下のエチレングリコール系有機溶媒を含む有機溶媒類を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位を有する重合体、 (B)感放射線性酸発生剤、および (C)20°C、1気圧での飽和蒸気圧が3.0mmHg以下のエチレングリコール系有機溶媒を含む有機溶媒類 を含有することを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039

FI (2件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601

Fターム (10件)：

2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ポジ型感放射線性樹脂組成物、転写フィルムおよびメッキ造形物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-236560   出願人：JSR株式会社
• ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-211028   出願人：東京応化工業株式会社

審査官引用 (4件)

• プラズマディスプレイパネル電極形成用ポジ型感光性ペースト組成物,およびこれを用いて製造されたフィルム,プラズマディスプレイパネル電極,プラズマディスプレイパネル
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-210356   出願人：三星エスディアイ株式会社
• ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-067342   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-027413   出願人：JSR株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた硬化膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-082236   出願人：富士フイルム株式会社