特許
J-GLOBAL ID：200903074911533153

ポジ型感放射線性樹脂組成物、転写フィルムおよびメッキ造形物の製造方法

発明者：
西川 耕二

西川 耕二 について

, 
森 康介

森 康介 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (4件)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-236560
公開番号（公開出願番号）：特開2008-058710
出願日： 2006年08月31日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：
【課題】感度、解像性、基板との密着性に優れ、現像後に開口部に残渣を発生させず、メッキ後の樹脂膜のクラック発生を抑制することができ、メッキの樹脂膜への押し込みを抑制、露光量の変化に対してパターンの寸法変化が小さく、T-topを解消できるポジ型感放射線性樹脂組成物、転写フィルム、バンプや配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法を提供すること。【解決手段】上記ポジ型感放射線性樹脂組成物は、(A)酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位とカルボキシル基を有する構造単位と架橋構造とを有する重合体、(B)感放射線性酸発生剤、および(C)有機溶媒を含有し、該重合体(A)を構成する全構造単位のうち、架橋構造を含む構造単位以外の構造単位の合計100モル%に対して、前記酸解離性官能基を有する構造単位が1〜35モル%であることを特徴とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)酸により解離して酸性官能基を生じる酸解離性官能基を有する構造単位とカルボキシル基を有する構造単位と架橋構造とを有する重合体、(B)感放射線性酸発生剤、および(C)有機溶媒を含有し、該重合体(A)を構成する全構造単位のうち、架橋構造を含む構造単位以外の構造単位の合計100モル%に対して、 前記酸解離性官能基を有する構造単位が1〜35モル%である ことを特徴とするポジ型感放射線性樹脂組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/00 ,  C08F 220/12 ,  H01L 21/60
FI (7件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 512 ,  H01L21/30 502R ,  H05K3/18 D ,  H05K3/00 F ,  C08F220/12 ,  H01L21/92 604S
Fターム (46件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025EA08 ,  2H025FA17 ,  2H025FA35 ,  2H025FA43 ,  2H025FA47 ,  4J100AB07P ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BC02P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC43Q ,  4J100BD12P ,  4J100DA01 ,  4J100JA38 ,  5E343BB71 ,  5E343CC62 ,  5E343DD33 ,  5E343DD43 ,  5E343ER12 ,  5E343ER18 ,  5E343GG01 ,  5E343GG20
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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