特許
J-GLOBAL ID：201003082019003437

加熱処理用ロータリーキルン及びこれを用いた加熱処理方法

発明者：
井上 憲矢

井上 憲矢 について


出願人/特許権者：
株式会社憲翔技研工業

株式会社憲翔技研工業 について


代理人 (4件)： 鈴木 正次 ,  涌井 謙一 ,  山本 典弘 ,  鈴木 一永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-214346
公開番号（公開出願番号）：特開2010-048488
出願日： 2008年08月22日
公開日（公表日）： 2010年03月04日
要約：
【課題】粒度の比較的小さい被処理物の微粉末が熱風に舞い上げられて飛散する現象を抑制し、ロータリーキルンによる加熱効率を向上させ、回収率を向上させる加熱処理用ロータリーキルン及びこれを用いた加熱処理方法の提供。【解決手段】回転自在に配置されている円筒状ドラム2の内周壁に、当該円筒状ドラム2に対して被処理物が供給される側から、当該円筒状ドラム2から加熱処理を受けた被処理物が排出される側に向けて、連続する螺旋状の溝が形成されている加熱処理用ロータリーキルン1。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
加熱処理に用いられるロータリーキルンであって、 回転自在に配置されている円筒状ドラムの内周壁に、当該円筒状ドラムに対して被処理物が供給される側から、当該円筒状ドラムから加熱処理を受けた被処理物が排出される側に向けて、連続する螺旋状の溝が形成されている ことを特徴とする加熱処理用ロータリーキルン。
IPC (4件)：
F27B 7/22 ,  C04B 11/036 ,  B09B 3/00 ,  C02F 11/12
FI (5件)：
F27B7/22 ,  C04B11/036 ,  B09B3/00 304Z ,  C02F11/12 B ,  B09B3/00 303Z
Fターム (19件)：
4D004AA02 ,  4D004AA16 ,  4D004AC04 ,  4D004BA02 ,  4D004CA22 ,  4D004CA34 ,  4D004CA42 ,  4D004CB09 ,  4D004CB34 ,  4D059AA03 ,  4D059BD23 ,  4D059BJ20 ,  4K061AA08 ,  4K061BA03 ,  4K061BA12 ,  4K061CA18 ,  4K061DA01 ,  4K061FA04 ,  4K061FA06
引用特許：
出願人引用 (3件)

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