特許

J-GLOBAL ID：201003082996649906

EUVマスク検査装置

発明者： 武久 究
出願人/特許権者： レーザーテック株式会社
代理人 (2件)： 家入 健 ,  岩瀬 康弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-314018
公開番号（公開出願番号）：特開2010-139593
出願日： 2008年12月10日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：

【課題】検査中のパターン面へのパーティクルの落下を抑制すること。【解決手段】本発明の一態様に係るEUVマスク検査装置100は、EUVマスク20のパターン面21を上側にした状態で、当該EUVマスク20を載置するステージ7と、EUVマスク20の検査中に、パターン面21を覆うように、当該パターン面21に平行に配置される平板状のツバ5とを備える。ツバ5は、EUVマスク20のパターン面21に検査光を集光する対物レンズ4の周囲に取り付けられている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

EUVマスクのパターン面を上側にした状態で、当該EUVマスクを載置するステージと、 前記EUVマスクのスキャン検査中に、前記パターン面の全面を覆うように、当該パターン面に平行に配置される平板状の保護部材と、 を備えるEUVマスク検査装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  G01N 21/956

FI (4件)：

G03F1/08 S ,  H01L21/30 531M ,  H01L21/30 503G ,  G01N21/956 A

Fターム (16件)：

2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051BA10 ,  2G051BA11 ,  2G051CA04 ,  2G051DA07 ,  2H095BA10 ,  2H095BD04 ,  2H095BD12 ,  2H095BD19 ,  2H095BE11 ,  5F046GA03 ,  5F046GD10 ,  5F046GD19 ,  5F046GD20

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 基板検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-137496   出願人：オリンパス株式会社
• 米国特許6492067号明細書
  
• 米国特許6646720号明細書
  
• 検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-337761   出願人：株式会社トプコン