特許

J-GLOBAL ID：201003084270211580

回転塗布装置の洗浄用治具および洗浄方法

発明者： 緒方 信博 ,  笹川 典彦
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-177377
公開番号（公開出願番号）：特開2010-016315
出願日： 2008年07月07日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：

【課題】回転塗布装置の洗浄に用いる洗浄用治具であって、洗浄用治具を比較的低い回転速度で回転させる場合であっても、容器を上方部から洗浄することが可能な洗浄用治具、及びこの洗浄用治具を用いた洗浄方法を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態による洗浄用治具50は、容器内に回転可能に保持された基板の上に処理液を滴下し、該基板の回転により該基板上に処理液の膜を塗布する回転塗布装置において容器を洗浄するために使用することができる洗浄用治具であって、回転塗布装置において回転された際に、裏面に供給されて回転により案内される溶剤を保持し容器内へ飛散させ得るように形成された外周面500を備える。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

容器内に回転可能に保持された基板の上に処理液を滴下し、該基板の回転により該基板上に前記処理液の膜を塗布する回転塗布装置において前記容器の洗浄に使用することができる洗浄用治具であって、 前記回転塗布装置において回転された際に、裏面に供給されて回転により案内される溶剤を保持し前記容器内へ飛散させ得るように形成された外周面を備える洗浄用治具。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 564C

Fターム (1件)：

5F046JA05

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-229551   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 回転処理装置およびその洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-312659   出願人：東京エレクトロン株式会社

審査官引用 (4件)

• 基板の回転処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-148316   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置および基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-124104   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-322420
  
• 塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-229551   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社