特許
J-GLOBAL ID:201003085984027895

金属箔付きシートおよび回路基板用積層体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 速水 進治 ,  佐藤 浩司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-245008
公開番号(公開出願番号):特開2010-076955
出願日: 2008年09月24日
公開日(公表日): 2010年04月08日
要約:
【課題】分散性の優れた窒化ホウ素粉末を用いた金属箔付きシートを提供する。【解決手段】平均一次粒子径d50が0.2μm以上、4μm以下であり、拡散反射赤外分光測定により3600cm-1〜3750cm-1の範囲に検出される吸収ピークを有する六方晶あるいは、乱層構造の窒化ホウ素粉末を用いた金属箔付きシートが提供される。前記吸収ピークは、ホウ素原子に共有結合したOH基を示す吸収ピークである。【選択図】図1
請求項(抜粋):
平均一次粒子径d50が0.2μm以上、4μm以下であり、 拡散反射赤外分光測定により3600cm-1〜3750cm-1の範囲に検出される吸収ピークを有する六方晶あるいは、乱層構造の窒化ホウ素粉末、または両者の混合粉末を含んだシート上に金属箔が形成された金属箔付きシート。
IPC (1件):
C01B 21/064
FI (2件):
C01B21/064 M ,  C01B21/064 H
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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