特許
J-GLOBAL ID：201003086332567592
デュアルビームシステム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
磯田 志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-120088
公開番号（公開出願番号）：特開2010-278004
出願日： 2010年05月26日
公開日（公表日）： 2010年12月09日
要約：
【課題】複数の荷電粒子ビームカラムを備えたシステム、及びそのシステムを容易に制御する方法を提供する【解決手段】電子ビームを生成し、電子ビームを試料に向けて集束させるための電子カラムであって、試料表面において少なくとも0.025テスラの強さを有する磁場を形成する磁気対物レンズを含む電子カラムを設け、磁場が存在する中で集束イオンビームを試料表面に指向させる際に、イオンビームの磁場による変位量を補償し、且つ補償によってイオンビームのスポットサイズの増加分が50%未満となるように、イオンビームを指向させる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
デュアルビームシステムの制御方法であって、
電子ビームを生成し、電子ビームを試料に向けて集束させるための電子カラムであって、前記試料表面において少なくとも0.025テスラの強さを有する磁場を形成する磁気対物レンズを含む電子カラムを設け、
前記磁場が存在する中で前記集束イオンビームを前記試料表面に指向させる際に、前記イオンビームの前記磁場による変位量を補償し、且つ前記補償によって前記イオンビームのスポットサイズの増加分が50%未満となるように、前記イオンビームを指向させることを特徴とするデュアルビームシステムの制御方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5C034DD03
, 5C034DD05
, 5C034DD09
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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