特許
J-GLOBAL ID：201003086471252326

エッチング装置、マイクロマシーン製造方法

発明者：
竹井 日出夫

竹井 日出夫 について

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佐藤 宗之

佐藤 宗之 について

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池田 智

池田 智 について

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水野 健二

水野 健二 について

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崎尾 進

崎尾 進 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (2件)： 石島 茂男 ,  阿部 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-257793
公開番号（公開出願番号）：特開2010-087430
出願日： 2008年10月02日
公開日（公表日）： 2010年04月15日
要約：
【要 約】【課題】ラジカルによる高速エッチングを行なえる技術を提供する。【解決手段】フィルタ30aによって真空槽11の内部をラジカル生成室3とエッチング室4とに区分けし、ラジカル生成室3内に二重ドームを突出させ、二重ドームの隙間27に還元性ガスと酸化性ガスを含有するエッチングガスを導入し、アンテナ24からマイクロ波を放射してプラズマを形成し、生成されたラジカルを放出孔28からラジカル生成室3の内部に放出させる。ラジカルはフィルタ30aの小孔32aを通してエッチング室4に移動し、エッチング対象物22の犠牲層をエッチング除去する。エッチング対象物22の表面上に還元性ガスのプラズマを形成しておき、酸化性ガスのラジカルによって形成された犠牲層上の酸化物を還元除去すると、高速のエッチングを行なうことができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ラジカル生成室と、 前記ラジカル生成室の内部に突き出され、ガス噴出孔が形成された外側ドームと、 前記外側ドームの内側に配置された内側ドームと、 前記外側ドームと前記内側ドームの隙間に、還元性ガスと酸化性ガスを供給するガス供給系と、 前記外側ドームと前記内側ドームによって二重に覆われ、前記外側ドームと前記内側ドームの隙間にマイクロ波を照射するアンテナと、 エッチング対象物が配置されるエッチング室と、 前記ラジカル生成室の内部と前記エッチング室の内部との間に配置され、複数の小孔が形成され、接地電位に接続されたフィルタとを有するエッチング装置。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ,  B81C 1/00 ,  H05H 1/46
FI (3件)：
H01L21/302 101D ,  B81C1/00 ,  H05H1/46 B
Fターム (24件)：
3C081AA20 ,  3C081CA03 ,  3C081CA14 ,  5F004AA16 ,  5F004BA03 ,  5F004BA20 ,  5F004BB26 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004CA06 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA17 ,  5F004DA18 ,  5F004DA22 ,  5F004DA23 ,  5F004DA24 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB01 ,  5F004DB03 ,  5F004DB07 ,  5F004DB08 ,  5F004DB31
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-353395   出願人：株式会社アルバック
審査官引用 (3件)

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