特許
J-GLOBAL ID：201003086823734458
嵩高性構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-217348
公開番号（公開出願番号）：特開2010-053461
出願日： 2008年08月26日
公開日（公表日）： 2010年03月11日
要約：
【課題】水不溶性の親水性高分子を含んだ高空孔率構造体の製造方法を提供する。【解決手段】(1)水不溶性の親水性高分子0.02重量%以上20重量%以下、大気圧下での沸点範囲が50°C以上200°C以下の油性化合物0.2重量%以上20重量%以下、及び水70重量%以上99.5重量%以下を含む水系分散液を得る工程であって、該油性化合物が水相に分散したエマルジョンとであって該親水性高分子を含有する水系分散液を調整する調製工程、(2)水系分散液を構成する水の一部を脱水することによって、油性化合物の濃度を該水系分散液より増加させた濃縮組成物を得る脱水工程、(3)濃縮組成物を加熱することによって、該濃縮組成物から油性化合物および水の一部を蒸発させて除去する乾燥工程、の3つの工程を含む親水性高分子からなる多孔性嵩高性構造体の製造方法。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
(1)水不溶性の親水性高分子0.02重量%以上20重量%以下、大気圧下での沸点範囲が50°C以上200°C以下の油性化合物0.2重量%以上20重量%以下、及び水70重量%以上99.5重量%以下を含む水系分散液を得る工程であって、該油性化合物が水相に分散したエマルジョンであって該親水性高分子を含有する水系分散液を調整する調製工程、
(2)水系分散液を構成する水の一部を脱水することによって、油性化合物の濃度を該水系分散液より増加させた濃縮組成物を得る脱水工程、
(3)濃縮組成物を加熱することによって、該濃縮組成物から油性化合物および水の一部を蒸発させて除去する乾燥工程、
の3つの工程を含む親水性高分子からなる嵩高性構造体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (22件)：
4L055AA02
, 4L055AA03
, 4L055AA05
, 4L055AA06
, 4L055AA07
, 4L055AA08
, 4L055AF09
, 4L055AF44
, 4L055AF46
, 4L055AG34
, 4L055AH50
, 4L055AJ01
, 4L055BB03
, 4L055BB06
, 4L055EA03
, 4L055EA12
, 4L055EA16
, 4L055EA18
, 4L055FA16
, 4L055GA26
, 4L055GA31
, 4L055GA50
