特許
J-GLOBAL ID：201003088871955078
露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-052773
公開番号（公開出願番号）：特開2010-204588
出願日： 2009年03月06日
公開日（公表日）： 2010年09月16日
要約：
【課題】 例えばロール・ツー・ロールで搬送される帯状の感光性基板の可撓性を利用しつつ、感光性基板へのパターンの転写にかかるスループットの向上を達成する。【解決手段】 円筒面(RLa)を有し、感光性の基板(SH)を円筒面に沿って保持した状態で円筒面の軸線(RLb)の方向に沿って移動する移動機構(RL)と、パターンを有する平面状のマスク(M)を保持し、基板の軸線の方向への移動に同期して、軸線の方向に対応する走査方向に沿って移動するステージ機構と、マスク上に照明領域(IR)を形成する照明光学系と、照明領域内のパターンの投影像を楕円弧状に延びる結像領域(ER)に形成する投影光学系(PL)とを備えている。円筒面の軸線は、結像領域が基板上においてマスクのパターン面とほぼ平行な面に沿って形成されるようにパターン面に対して傾けられている。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
円筒面を有し、感光性の基板を前記円筒面に沿って保持した状態で前記円筒面の軸線の方向に沿って移動する移動機構と、
パターンを有する平面状のマスクを保持し、前記基板の前記軸線の方向への移動に同期して、前記軸線の方向に対応する走査方向に沿って移動するステージ機構と、
前記ステージ機構に保持された前記マスク上に照明領域を形成する照明光学系と、
前記照明領域内のパターンの投影像を楕円弧状に延びる結像領域に形成する投影光学系とを備え、
前記円筒面の軸線は、前記結像領域が前記基板上において前記マスクのパターン面とほぼ平行な面に沿って形成されるように前記パターン面に対して傾けられていることを特徴とする露光装置。
IPC (3件)：
G03F 7/24
, G02F 1/134
, G02F 1/13
G03F7/24 Z
, G02F1/1343
, G02F1/13 101
2H088FA18
, 2H088FA30
, 2H088HA02
, 2H088HA24
, 2H088MA20
, 2H092GA13
, 2H092GA33
, 2H092GA41
, 2H092GA50
, 2H092HA04
, 2H092JB05
, 2H092JB23
, 2H092JB32
, 2H092MA13
, 2H092NA29
, 2H097AA05
, 2H097AA16
, 2H097AB09
, 2H097BB03
, 2H097CA06
, 2H097DB11
, 2H097FA09
, 2H097GB03
, 2H097LA12
