特許
J-GLOBAL ID：200903087834324311

走査露光装置、走査露光方法、デバイス製造方法およびデバイス

発明者：
香田 徹

香田 徹 について

, 
筒井 慎二

筒井 慎二 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-191329
公開番号（公開出願番号）：特開2004-039697
出願日： 2002年06月28日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】マスクパターンを基板に投影する走査型投影露光装置において、自重変形したマスクに対し、高解像力でしかも大画面の投影画像を容易に再現する走査型露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を提供する。【解決手段】円弧状の照明光学系7と、前記照明光学系により照射されたマスク1内のパターンを基板5上に像投影する投影光学系4と、前記マスクを走査させるマスクステージ2と、前記基板を走査させる基板ステージ6とを備え、前記マスクステージと前記基板ステージを同期させて走査する走査露光装置において、マスクパターン像面と基板面とを所定の位置関係にするために、前記マスクの周辺部を支持するマスク支持手段と、周辺部支持により自重変形した前記マスクについて照射領域内の前記パターンを前記投影光学系の物体面側焦点面内に設定するための前記マスクステージ傾斜手段とを備えたことを特徴とする走査型露光装置を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスク内のパターンに円弧状の照明光束を照射する照明光学系と、前記照明光学系により照射されたマスク内のパターンを基板上に像投影する投影光学系と、前記マスクを走査させるマスクステージと、前記基板を走査させる基板ステージとを備え、前記マスクステージと前記基板ステージを同期させて投影光学系に対して走査する走査露光装置において、 前記マスクの周辺部を支持するマスク支持手段と、周辺部支持により自重変形した前記マスクについて前記円弧状照明光束による照射領域内の前記パターンを前記投影光学系の物体面側焦点面内に設定するための前記マスクステージ傾斜手段とを備えたことを特徴とする走査露光装置。
IPC (3件)：
H01L21/027 ,  G03F1/08 ,  G03F7/207
FI (6件)：
H01L21/30 518 ,  G03F1/08 P ,  G03F7/207 Z ,  H01L21/30 515F ,  H01L21/30 515G ,  H01L21/30 516A
Fターム (11件)：
2H095BE05 ,  2H097AB09 ,  2H097BA01 ,  2H097LA12 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC09 ,  5F046CC11 ,  5F046DA14 ,  5F046DA17
引用特許：
出願人引用 (7件)
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