特許
J-GLOBAL ID：201003091409863150
荷電粒子線照射制御装置及び荷電粒子線照射方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-064295
公開番号（公開出願番号）：特開2010-218886
出願日： 2009年03月17日
公開日（公表日）： 2010年09月30日
要約：
【課題】荷電粒子線の照射状態/非照射状態の切替の高速化を図ると共に、出射される荷電粒子線の安定化を図ることが可能な荷電粒子線照射制御装置及び荷電粒子線照射方法を提供することを目的としている。【解決手段】荷電粒子線の照射状態の加速電圧を基準加速電圧とし、加速電圧を、基準加速電圧より大きい又は小さい設定加速電圧に切り替えることで、荷電粒子線の軌道を変更して、他の物体に荷電粒子線R0を衝突させ、荷電粒子線を非照射状態とする。加速電圧を大きく又は小さく切り替えるだけで、非照射状態とすることが可能であるため、照射状態/非照射状態の切替の高速化を図ることができる。また、イオン源21のアーク放電のON/OFF制御を行う必要がないため、アーク放電の立ち上がりにおける不安定さの影響を受けることがなく、荷電粒子線の安定化を図ることができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
荷電粒子線の照射を制御する荷電粒子線照射制御装置であって、
荷電粒子を加速させる加速電圧を制御する制御手段を備え、
前記制御手段は、荷電粒子線の照射状態の加速電圧を基準加速電圧とし、加速電圧を前記基準加速電圧より大きい又は小さい設定加速電圧に切り替えることで、荷電粒子線を非照射状態とする設定加速電圧制御手段を備えることを特徴とする荷電粒子線照射制御装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
2G085AA11
, 2G085BA02
, 2G085BA06
, 2G085CA15
, 2G085CA24
