特許
J-GLOBAL ID:201003092404862306

ヘテロアセン誘導体及びその用途

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-313210
公開番号(公開出願番号):特開2010-138077
出願日: 2008年12月09日
公開日(公表日): 2010年06月24日
要約:
【課題】優れた耐酸化性を有し、塗布法による半導体活性相形成が可能な、ヘテロアセン誘導体、及びそれを用いた耐酸化性有機半導体材料並びに有機薄膜を提供する。【解決手段】一般式(1)で示されるヘテロアセン誘導体。(ここで、置換基R1〜R4は同一又は異なって、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数4〜30のアリール基、炭素数6〜20のアルキル基、を示し、T1及びT2は同一又は異なって、硫黄、セレン、テルル、リン、ホウ素を示し、l及びmは、各々0又は1の整数)【選択図】図1
請求項(抜粋):
下記一般式(1)で示されることを特徴とするヘテロアセン誘導体。
IPC (7件):
C07D 495/22 ,  C07F 5/02 ,  C07F 9/656 ,  C07D 495/04 ,  H01L 51/05 ,  H01L 51/30 ,  H01L 51/40
FI (7件):
C07D495/22 ,  C07F5/02 A ,  C07F9/6568 ,  C07D495/04 101 ,  H01L29/28 100A ,  H01L29/28 250H ,  H01L29/28 310J
Fターム (16件):
4C071AA01 ,  4C071AA08 ,  4C071BB03 ,  4C071BB07 ,  4C071CC24 ,  4C071DD04 ,  4C071EE12 ,  4C071FF22 ,  4C071LL10 ,  4H048AA01 ,  4H048AA03 ,  4H048AB78 ,  4H048VA77 ,  4H050AA01 ,  4H050AA03 ,  4H050AB78
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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