特許

J-GLOBAL ID：201003097316068642

蒸着用マスクおよびその製造方法

発明者： 萩原 宣男
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (4件)： 藤島 洋一郎 ,  三反崎 泰司 ,  長谷部 政男 ,  田名網 孝昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-040220
公開番号（公開出願番号）：特開2010-196091
出願日： 2009年02月24日
公開日（公表日）： 2010年09月09日
要約：

【課題】蒸着材料を通過させるための通過孔を精度良く形成することが可能な蒸着用マスクおよびその製造方法を提供する。【解決手段】蒸着用マスク1の製造方法では、金属薄膜10の両面に、反射防止膜30A,30Bを介してフォトレジスト膜12a,12bを形成したのち露光することにより、フォトレジスト膜12a,12bに通過孔10A-1のパターンを形成する。露光時に、フォトレジスト膜12a,12bを透過した照射光が金属薄膜10の表面もしくは裏面に到達する前に、反射防止膜30A,30Bにおいて吸収され、ハレーションの発生が抑制される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

金属薄膜の表面および裏面のうち少なくとも一面に反射防止膜を形成する工程と、 前記反射防止膜上に感光性樹脂層を形成する工程と、 前記感光性樹脂層に光を照射することにより、蒸着材料を通過させる通過孔のパターンを形成する工程と、 前記感光性樹脂層に形成したパターンに基づいて、前記金属薄膜および前記反射防止膜にエッチングを施すことにより前記通過孔を形成する工程と を含む蒸着用マスクの製造方法。

IPC (3件)：

C23C 14/04 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (12件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC35 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG33 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 蒸着用マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-421720   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• メタルマスクの製作方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-215605   出願人：株式会社健正堂