ガス成分分析装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-317053
公開番号（公開出願番号）：特開2010-139421
出願日： 2008年12月12日
公開日（公表日）： 2010年06月24日
要約：

【課題】分離手段および半導体ガスセンサが設けられた測定流路にキャリアガスを流通させ、測定流路に試料ガスを供給して半導体ガスセンサで各成分を検知する際、試料ガスの供給時に検出流路におけるガス流量の変動を抑制して半導体ガスセンサの検知出力のベースラインに乱れが生じることを抑制し、正確な測定を行うガス成分分析装置を提供する。【解決手段】分離手段および半導体ガスセンサを有すると共に始端側からキャリアガスが供給される測定流路と、測定流路に試料ガスを供給する供給手段と、供給手段による測定流路への試料ガスの供給を阻止する供給停止状態および前記供給手段による測定流路への試料ガスの供給を許容する供給状態とを切り替える切替手段とを備え、測定流路に、半導体ガスセンサ出力を安定化させる所定量のキャリアガスを貯留するバッファ手段を設ける。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

試料ガスをキャリアガスと混合した状態で含有成分ごとに分離した後、各成分を検知するガス成分分析装置であって、分離手段および半導体ガスセンサを備えると共に始端側からキャリアガスが供給される測定流路と、前記測定流路に試料ガスを供給する供給手段と、前記供給手段による測定流路への試料ガスの供給を阻止する供給停止状態と、前記供給手段による測定流路への試料ガスの供給を許容する供給状態とを切り替える切替手段とを備え、前記測定流路に、一定量のキャリアガスを貯留可能なバッファ手段を設けたことを特徴とするガス成分分析装置。

IPC (4件)：

G01N 1/22 , G01N 1/00 , G01N 30/20 , G01N 30/26

FI (4件)：

G01N1/22 H , G01N1/00 101S , G01N30/20 J , G01N30/26 M

Fターム (12件)：

2G052AA08 , 2G052AB03 , 2G052AB05 , 2G052AB12 , 2G052AC21 , 2G052AD27 , 2G052AD42 , 2G052CA14 , 2G052CA35 , 2G052ED15 , 2G052GA23 , 2G052JA09

引用特許：

出願人引用 (1件)

油中ガスの分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-125958 出願人：株式会社日立製作所, 東京電力株式会社

審査官引用 (6件)

反応性ガス検出装置及びホルムアルデヒドガス検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-134208 出願人：エフアイエス株式会社
パーフルオロカーボン入電気装置の異常診断装置および診断方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-053498 出願人：株式会社日立製作所, 中部電力株式会社
特開平1-227045

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