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J-GLOBAL ID：201102213270467141   整理番号：11A1252269

立方晶窒化ホウ素膜の新しい残留応力緩和手法

著者 (4件)： 大堀鉄太郎 (長岡技科大) ,  大堀鉄太郎 (ユニオンツール) ,  鈴木常生 (長岡技科大) ,  末松久幸 (長岡技科大)
資料名： New Diamond  (New Diamond)
巻： 27  号： 3  ページ： 46-47  発行年： 2011年07月25日 
JST資料番号： X0341A  ISSN： 1340-4792  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ファインセラミック ,...
準シソーラス用語： *立方晶窒化ホウ素

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分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 立方晶窒化ホウ素 ,  残留応力 ,  緩和手法