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J-GLOBAL ID：201102214720725592   整理番号：11A0467147

AZnLOF2020における電子線ナノリソグラフィ

Electron beam nanolithography in AZnLOF 2020

著者 (9件)： HERTH E. (Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA) ,  TILMANT P. (Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA) ,  FAUCHER M. (Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA) ,  FRANOIS M. (Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA) ,  BOYAVAL C. (Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA) ,  VAURETTE F. (Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA) ,  DEBLOCQ Y. (Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA) ,  LEGRAND B. (Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA) ,  BUCHAILLOT L. (Inst. d’Electronique, de Microelectronique et de Nanotechnologie, CNRS, Villeneuve d’Ascq, FRA)
資料名： Microelectronic Engineering  (Microelectronic Engineering)
巻： 87  号： 11  ページ： 2057-2060  発行年： 2010年 
JST資料番号： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (2件)： 電子線 ,  ナノリソグラフィ