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J-GLOBAL ID：201102219561086267   整理番号：11A0498403

らせん磁性体FeGe薄膜中スキルミオン結晶の室温近傍での形成

Near room-temperature formation of a skyrmion crystal in thin-films of the helimagnet FeGe

著者 (11件)： YU X. Z. (JST-ERATO, Tokyo, JPN) ,  KANAZAWA N. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  ONOSE Y. (JST-ERATO, Tokyo, JPN) ,  ONOSE Y. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  KIMOTO K. (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  ZHANG W. Z. (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  ISHIWATA S. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  MATSUI Y. (National Inst. Materials Sci., Tsukuba, JPN) ,  TOKURA Y. (JST-ERATO, Tokyo, JPN) ,  TOKURA Y. (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  TOKURA Y. (RIKEN, Wako, JPN)
資料名： Nature Materials  (Nature Materials)
巻： 10  号： 2  ページ： 106-109  発行年： 2011年02月 
JST資料番号： W1364A  ISSN： 1476-1122  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スキルミオン結晶(SkX)は,外部磁場によって形成される新しいナノスケールのスピン構造で,その実現により新規物性の創製やスピントロニクスの新たな展開が期待されている。その応用には室温で安定なSkXを得る必要がある。本研究では,らせん磁性体であるFeGe薄膜において室温近傍でSkXの形成を確認した。B20型FeGe多結晶試料は,アーク溶解後4GPa,1073Kで1hの間アニールして作製した。TEMによるローレンツ像には薄片試料を用い,試料厚さはEELSで評価した。試料の厚さをSkXの格子定数よりも薄くすると2次元SkXが形成され,2次元SkXは3次元SkXに比べ著しく広い温度範囲,および磁場中で安定であることを明らかにした。

シソーラス用語： *螺旋磁性 ,  *鉄化合物 ,  *ゲルマニウム化合物 ,  金属薄膜 ,  結晶構造 ,  スキルミオン ,  ナノ構造 ,  電子スピン ,  鉱物合成 ,  多結晶 ,  スピントロニクス

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (5件)： らせん磁性体 ,  薄膜 ,  スキルミオン結晶 ,  室温 ,  近傍