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J-GLOBAL ID:201102225734935842   整理番号:11A0168298

窒素プロセスガスを使用するTiO2光触媒被膜のコールドスプレー

Cold Spraying of TiO2 Photocatalyst Coating With Nitrogen Process Gas
著者 (4件):
資料名:
巻: 19  号:ページ: 1218-1223  発行年: 2010年12月 
JST資料番号: W0482A  ISSN: 1059-9630  CODEN: JTTEE5  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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プロセスガスとしてHeとN2を使用してTiO2被膜を製造してプロセスガスの影響を調べた。また,プロセスガスの温度を変化して被膜特性に及ぼす影響を調べた。さらに,製造した被膜の光触媒活性を調べた。その結果,プロセスガスとしてHeとO2を使用した場合,いずれもアナターゼ型のTiO2被膜が得られた。被膜の厚さは処理ガスの温度の上昇と共に増加した。製造した被膜はいずれも優れたNO除去効果を示した。被膜の光触媒活性に及ぼす製造に使用するプロセスガスの影響は認められなかった。
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分類 (3件):
分類
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金属材料へのセラミック被覆  ,  光化学一般  ,  触媒の調製 
タイトルに関連する用語 (5件):
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