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J-GLOBAL ID：201102233549593245   整理番号：11A0296115

実用化プロセスにおけるプラズマ源の革新~平行平板プラズマ源から新プラズマ源へ~3.超高周波を用いた大面積プラズマCVDの開発と薄膜シリコン太陽電池への応用

著者 (6件)： 竹内良昭 (三菱重工業) ,  真島浩 (三菱重工業 長崎研) ,  西宮立享 (三菱重工業 長崎研) ,  大坪栄一郎 (三菱重工業) ,  山内康弘 (三菱重工業) ,  高塚汎 (三菱重工業)
資料名： プラズマ・核融合学会誌  (Journal of Plasma and Fusion Research)
巻： 87  号： 1  ページ： 9-13  発行年： 2011年01月25日 
JST資料番号： G0114A  ISSN： 0918-7928  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電極の両端から供給する超高周波電力の位相を変調する方法により,世界で初めて60MHzの超高周波で1m²を超える大面積プラズマ生成に成功した。CVD装置のプラズマ源として薄膜シリコン太陽電池の製造に適用し,実生産で高い生産性を実証した。これらの結果について紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： *太陽電池 ,  *プラズマCVD ,  *プラズマ生成 ,  *プラズマ源 ,  生産性 ,  アモルファスシリコン ,  SHF【周波数】
準シソーラス用語： *シリコン太陽電池 ,  大面積 ,  超高周波 ,  高周波プラズマ

分類 (2件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  太陽電池  (NC03084O)

引用文献 (12件)：

• CURTINS, H. Plasma Chem. Plasma Process. 1987, 7, 267
• ODA, S. Jpn. J. Appl. Phys. 1990, 29, 1889
• HEINTZE, M. J. Phys. D : Appl. Phys. 1993, 26, 1781
• TAKEUCHI, Y. Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 3405
• SANSONNENS, L. Plasma Sources Sci. Technol. 1997, 6, 170

タイトルに関連する用語 (10件)： 実用化 ,  プロセス ,  プラズマ源 ,  平行平板 ,  超高周波 ,  大面積 ,  プラズマCVD ,  開発 ,  薄膜シリコン太陽電池 ,  応用