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J-GLOBAL ID：201102239280831398   整理番号：11A2007152

金ナノ粒子プラズモン共鳴吸収による光過熱機構:高分子薄膜のサブ波長ナノホールパターン加工

著者 (6件)： 村岡景太 (北大 大学院) ,  東海林竜也 (北大 大学院) ,  山田和志 (京都工繊大) ,  喜多村昇 (北大 大学院) ,  坪井泰之 (北大 大学院) ,  坪井泰之 (JST-さきがけ)
資料名： 固体・表面光化学討論会講演要旨集  (固体・表面光化学討論会)
巻： 30th  ページ： 50-51  発行年： 2011年11月21日 
JST資料番号： X0082A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 微細加工 ,  *ナノメータ加工 ,  ナノ粒子 ,  共鳴 ,  *高分子薄膜 ,  *ナノ構造 ,  *細孔 ,  *レーザ照射 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  ナノホール ,  金ナノ粒子
準シソーラス用語： プラズモン共鳴 ,  超微細加工

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 金ナノ粒子 ,  プラズモン共鳴 ,  過熱 ,  高分子薄膜 ,  サブ波長 ,  ナノホール