選択的金属化に157nmのF<sub>2</sub>レーザーを使った石英ガラス基板上のアルミニウム薄膜の表面と界面修正

IWAI Kazufumi; IWAI Kazufumi; OKOSHI Masayuki; NOJIRI Hidetoshi; INOUE Narumi

文献

J-GLOBAL ID：201102239827997423 整理番号：11A0571809

選択的金属化に157nmのF₂レーザーを使った石英ガラス基板上のアルミニウム薄膜の表面と界面修正

Surface and Interface Modifications of Aluminum Thin Films on Silica Glass Substrate Using 157nm F₂ Laser for Selective Metallization

出版者サイト {{ this.onShowPLink() }} 複写サービスで全文入手 {{ this.onShowCLink("http://jdream3.com/copy/?sid=JGLOBAL&noSystem=1&documentNoArray=11A0571809&COPY=1") }}
高度な検索・分析はJDreamⅢで {{ this.onShowJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=11A0571809&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=G0520B") }}

著者 (5件)： , , , ,
資料名：
巻： 50 号： 2 ページ： 022702.1-022702.5 発行年： 2011年02月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

157nmのF₂レーザーは,Al薄膜表面に強い酸化を誘導し,選択的な金属化のために石英ガラスまたは天然酸化物Si基板上で使うKOH水溶液への化学耐性を持たせた。表面上と,深さ方向の強い酸化反応をX線光電子分光法で確かめた。非照射サンプルの接着強度16のkgf/cm²と比較して F₂-レーザー照射サンプルでAlと石英ガラス間の高い接着強度 663kgf/cm²も得た。F₂レーザー-照射表面と界面修正のためのAl薄膜の適当な厚みはおよそ20nmであった。F₂-レーザー誘導界面修正のメカニズムを基板材への依存とAl薄膜下の石英ガラスの化学接着状態の分析に関して議論した。(翻訳著者抄録)

, , , , , , , , , ,

固体デバイス製造技術一般

引用文献 (22件)：

R. Takagi, K. Masui, S. Nakamura, and T. Tsujioka: Appl. Phys. Lett.93(2008)213304.
Y. Ishikawa and K. Wada: Thin Solid Films 518(2010)583.
M. Colina, P. Serra, J. M. Fernandez-Pradas, L. Sevilla, and J. L. Morenza: Biosens. Bioelectron.20(2005)1638.
M. McCallum, M. Kameyama, and S. Owa: Microelectron. Eng.83(2006)640.
S. K. Lee and S. J. Na: Appl. Phys. A 68(1999)417.

, , , , , ,

前のページに戻る

選択的金属化に157nmのF2レーザーを使った石英ガラス基板上のアルミニウム薄膜の表面と界面修正

選択的金属化に157nmのF₂レーザーを使った石英ガラス基板上のアルミニウム薄膜の表面と界面修正