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J-GLOBAL ID：201102247636830068   整理番号：11A0300870

プラズマ高分子成長を調べる巨視的方法

Macroscopic Approach to Investigate Plasma Polymer Growth

著者 (3件)： HEGEMANN D. (Swiss Federal Lab. Materials Testing and Res., St. Gallen, CHE) ,  KOERNER E. (Swiss Federal Lab. Materials Testing and Res., St. Gallen, CHE) ,  GUIMOND S. (Swiss Federal Lab. Materials Testing and Res., St. Gallen, CHE)
資料名： Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters  (Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻： 53rd  ページ： 409-413  発行年： 2010年 
JST資料番号： E0063B  ISSN： 0737-5921  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： プラズマプロセスへのエネルギー入力に基づく巨視的方法を用いて,工業プロセスに転換し得るシロキサン(SiO_x),炭化水素(a-C:H)そしてまたO-とN-機能性炭化水素(a-C:H:O,a-C:H:N)被覆のような機能性被覆を得るために,プラズマ高分子成長プロセスを調べて最適化した。ヘキサメチルシロキサン(HMDSO)放電では,対称および非対称放電で疎水性シロキサン被覆の同様な成長条件が得られたが,非対称設定内での小さい電極は強く促進された速度を可能にし,強いイオン衝突にもかかわらず同程度のエネルギー密度を特徴付けた。CO₂/C₂H₂放電では,プラズマ化学プロセスによって開始する成長機構の変化が起こったが,膜成長中の非常に増したエネルギー密度を伴って,プラズマへの促進化エネルギー入力においてイオン誘起エッチング効果が支配的になった。

シソーラス用語： *プラズマ重合 ,  ポリシロキサン ,  二酸化炭素 ,  炭化水素 ,  プラズマ ,  高周波放電 ,  エネルギー密度 ,  薄膜成長 ,  最適化 ,  プラズマ化学反応 ,  アルキン
準シソーラス用語： 高周波プラズマ ,  プロセス最適化

分類 (2件)： 放射線重合  (CG04060K) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (2件)： アセチレン ,  ヘキサメチルジシロキサン

タイトルに関連する用語 (3件)： プラズマ ,  高分子 ,  成長