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J-GLOBAL ID：201102249006582514   整理番号：11A1286319

フォトマスク生産の非接触スピン洗浄処理装置用のHTS磁気浮上を使ったモデル装置の開発と試験

Development and Test of Model Apparatus Utilizing HTS Magnetic Levitation for Non-Contact Spinning Clean-Up Processors of Photo Mask Production

著者 (7件)： SAITO Kimiyo (MTC Co. Ltd., Niigata, JPN) ,  FUKUI Satoshi (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  OGAWA Jun (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  OKA Tetsuo (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  SATO Takao (Niigata Univ., Niigata, JPN) ,  SORIMACHI Satoshi (MTC Co. Ltd., Niigata, JPN) ,  MIYAZAKI Shinsuke (MTC Co. Ltd., Niigata, JPN)
資料名： IEEE Transactions on Applied Superconductivity  (IEEE Transactions on Applied Superconductivity)
巻： 21  号： 3,Pt.2  ページ： 2241-2244  発行年： 2011年06月 
JST資料番号： W0177A  ISSN： 1051-8223  CODEN： ITASE9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (9件)： フォトマスク ,  非接触 ,  スピン ,  洗浄処理装置 ,  HTS ,  磁気浮上 ,  モデル ,  開発 ,  試験