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J-GLOBAL ID：201102256956440119   整理番号：11A0306346

EUVマスク用のEB検査システムEBeyeMの開発

Development of EB Inspection System EBeyeM for EUV Mask

著者 (16件)： HIRANO Takashi (Toshiba Corp., JPN) ,  YAMAGUCHI Shinji (Toshiba Corp., JPN) ,  NAKA Masato (Toshiba Corp., JPN) ,  ITOH Masamitsu (Toshiba Corp., JPN) ,  KADOWAKI Motoki (Toshiba Corp., JPN) ,  KOIKE Tooru (Toshiba Corp., JPN) ,  YAMAZAKI Yuuichiro (Toshiba Corp., JPN) ,  TERAO Kenji (Ebara Corp., JPN) ,  HATAKEYAMA Masahiro (Ebara Corp., JPN) ,  SOBUKAWA Hiroshi (Ebara Corp., JPN) ,  MURAKAMI Takeshi (Ebara Corp., JPN) ,  TSUKAMOTO Kiwamu (Ebara Corp., JPN) ,  HAYASHI Takehide (Ebara Corp., JPN) ,  WATANABE Kenji (Ebara Corp., JPN) ,  KIMURA Norio (Ebara Corp., JPN) ,  HAYASHI Naoya (Dai Nippon Printing Co., Ltd., JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7823  号： Pt.2  ページ： 78232C.1-78232C.8  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 写像投影電子顕微鏡方式を採用してSEMよりも走査速度を増強したEBeyeMと名付けたEUVマスク検査システムの試作機の概要と性能を報告した。この方法は多数のTDIセンサを用いて電子画像を検出し,画像処理システムを用いて並列処理を行う。粒子とパターン欠陥の性能を通常のSEM(M2351)と比較して調べた。EBeyeMの光学系は画像拡大効果があり,粒子の画像はSEMよりもはるかに大きいことが分かった。EBeyeMの粒子の測定感度はSEMの70~80nmに対して30nmレベルであり,20nmまでの検出可能性が得られた。HP100nmのLSパターンを用いて評価したEBeyeMのMTFは19Xnm光学検査システムよりもはるかに大きかった。製品としての仕様を議論した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *極端紫外線 ,  *フォトマスク ,  *試験装置 ,  *電子ビーム ,  *電子顕微鏡観察 ,  プロトタイピング ,  *画像処理システム ,  並列処理 ,  欠陥 ,  微粒子 ,  写像 ,  投影法【図法】

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  電子ビーム・イオンビームの応用  (BD02070X) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (4件)： EUVマスク ,  EB ,  検査システム ,  開発