POSSEME N. について
CEA-LETI-Minatec, 17 Rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, FRA について
BOUYSSOU R. について
LTM-CNRS/UJF/INPG (CEA-LETI-MINATEC), 17 Rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, FRA について
CHEVOLLEAU T. について
LTM-CNRS/UJF/INPG (CEA-LETI-MINATEC), 17 Rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, FRA について
DAVID T. について
CEA-LETI-Minatec, 17 Rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, FRA について
ARNAL V. について
Central R&D, STMicroelectronics, 850 Rue J. Monnet, 38926 Crolles Cedex, FRA について
DARNON M. について
LTM-CNRS/UJF/INPG (CEA-LETI-MINATEC), 17 Rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, FRA について
BRUN Ph. について
CEA-LETI-Minatec, 17 Rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, FRA について
VEROVE C. について
Central R&D, STMicroelectronics, 850 Rue J. Monnet, 38926 Crolles Cedex, FRA について
JOUBERT O. について
LTM-CNRS/UJF/INPG (CEA-LETI-MINATEC), 17 Rue des Martyrs, 38054 Grenoble Cedex 09, FRA について
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena について
脂肪族フッ素化合物 について
エッチング について
マスク について
残留物 について
プラズマ処理 について
チタン化合物 について
窒化物 について
X線光電子分光法 について
不動態化 について
誘電体 について
半導体プロセス について
フルオロカーボン について
ハードマスク について
窒化チタン について
固体デバイス製造技術一般 について
フルオロカーボン について
プラズマ について
誘電体 について
エッチング について
ハードマスク について
残留物 について
成長 について
対策 について