文献

J-GLOBAL ID：201102260619219025   整理番号：11A1393715

NbドープTiO₂薄膜の熱拡散率に対するNb添加効果

Effect of Nb Concentration on Thermal Diffusivity of Nb-Doped TiO₂ Films

著者 (7件)： 田崎ちひろ (青山学院大 大学院理工学研究科) ,  岡伸人 (青山学院大 大学院理工学研究科) ,  八木貴志 (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  竹歳尚之 (産業技術総合研) ,  馬場哲也 (産業技術総合研 計測標準研究部門) ,  神山敏久 (AGCセラミックス) ,  重里有三 (青山学院大 大学院理工学研究科)
資料名： 熱物性  (日本熱物性学会会誌)
巻： 25  号： 3  ページ： 117-120  発行年： 2011年08月31日 
JST資料番号： X0597A  ISSN： 0913-946X  CODEN： NEBUE4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： DCマグネトロンスパッタ法により,TiO_2-xおよびNb:TiO_2-x還元ターゲット(Nb含有量:3.7,9.5at.%)を用いて,Mo/TiO₂/MoおよびMo/Nb:TiO₂/Mo3層膜を作製し,TiO₂およびNb:TiO₂の熱拡散率を導出した。なおTiO₂層およびNb:TiO₂層は基板温度を110°Cの条件での300nm厚さに成膜し,成膜後600°Cで焼成を行った。熱拡散率解析は裏面加熱/表面測温型ナノ秒サーモリフレクタンス熱物性解析装置を用いた。得られたTiO₂およびNb:TiO₂の熱拡散率は,膜中のNb含有量が増加するに従い2.1×10^-6m²s^-1から1.2×10^-6m²s^-1まで減少した。熱拡散率減少のメカニズムはTiより質量の大きいNb原子の増加によりフォノン散乱の確率が増加し,平均自由行程が減少したためであると考えられる。(著者抄録)

シソーラス用語： *温度伝導率 ,  *誘電体薄膜 ,  *酸化チタン ,  ドーピング ,  ニオブ ,  スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  多層 ,  モリブデン ,  焼成 ,  濃度依存性 ,  添加物効果 ,  散乱 ,  計測 ,  *熱拡散 ,  膜厚 ,  透明導電膜 ,  X線回折 ,  顕微鏡観察 ,  原子間力顕微鏡 ,  表面性状 ,  フォノン散乱 ,  同時焼成
準シソーラス用語： サーモリフレクタンス法 ,  共焼成

分類 (1件)： 比熱・熱伝導一般  (BL05021E)

引用文献 (11件)：

• TANAKA, A. Thin Solid Films. 2010, 518, 2934
• FURUBAYASHI, Y. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 252101
• SATO, Y. Thin Solid Films. 2008, 516, 5758
• SATO, Y. J. Vac. Sci. Technol. A. 2010, 28, 851
• HITOSUGI, T. Appl. Phys. Express. 2008, 1, 111203

タイトルに関連する用語 (6件)： Nb ,  ドープ ,  TiO2 ,  薄膜 ,  熱拡散率 ,  添加効果