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J-GLOBAL ID：201102289314394771   整理番号：11A0306368

hp22nmとそれ以上のDUV光源を使用するEUVマスク検査法の研究

Study of EUV mask inspection technique using DUV light source for hp22nm and beyond

著者 (6件)： HIRANO Ryoichi (Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN) ,  KIKUIRI Nobutaka (Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN) ,  HASHIMOTO Hideaki (Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN) ,  TAKAHARA Kenichi (Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN) ,  HIRONO Masatoshi (Nuflare Technol., Inc. (NFT), Yokohama-city, JPN) ,  SHIGEMURA Hiroyuki (Semiconductor Leading Edge Technol., Inc. (Selete), Ibaraki-ken, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 7823  号： Pt.2  ページ： 782339.1-782339.10  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： NPI-7000EUVαを用いて開発中の199nm波長の使用に基づくhp22nm以下のEUVマスク検査装置NPI-7000の性能を報告した。この装置は反射/透過画像を用いるフォトマスク検査,P/S偏光を用いるEUVLマスクパターン検査,デフォーカス光学系を用いるEUVLブランクマスク検査の3モードで動作する。この装置を用いたhp22nmの場合のEUVマスクダイ対ダイ(DD)パターン検査に対する偏光光学系の効果とブランク検査に対するデフォーカス光学系の効果を実証した。また,hp22nmの場合のEUVマスクダイ対データベース(DDB)パターン検査の改善とDD/DDB検査に好ましいマスク構造も検討した。

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *フォトマスク ,  *試験装置 ,  *光学器械 ,  *極端紫外線 ,  光透過 ,  光反射 ,  光学系 ,  直線偏光 ,  回路パターン形成 ,  ブランク ,  焦点合せ
準シソーラス用語： デフォーカス

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光学情報処理  (BD03060T)

タイトルに関連する用語 (3件)： EUVマスク ,  検査 ,  研究